SFr. 265.00
€ 286.20
BTC 0.0052
LTC 4.217
ETH 0.1056


bestellen

Artikel-Nr. 33317539


Diesen Artikel in meine
Wunschliste
Diesen Artikel
weiterempfehlen
Diesen Preis
beobachten

Weitersagen:


Herausgeber: 
  • Julia Nobbe
  • Peter Tochtermann
  • Hubertus Schacht
  • Helga Kober-Dehm
  • Klaus Bacher
  • Klaus Grabinski
  • Friedrich-Wilhelm Engel
  • Stephan Fricke
  • Klaus-Jürgen Melullis
  • Uwe Scharen
  • Walter Schramm
  • Hans-Detlef Schwarz
  • Annette Rupp-Swienty
  • Ina Schnurr
    Autor(en): 
  • Georg Benkard
  • Patentgesetz: Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz 
     

    (Buch)
    Dieser Artikel gilt, aufgrund seiner Grösse, beim Versand als 3 Artikel!


    Übersicht

    Auf mobile öffnen
     
    Lieferstatus:   Auf Bestellung (Lieferzeit unbekannt)
    Veröffentlichung:  Juni 2023  
    Genre:  Wirtschaft / Recht 
     
    Biomaterial / Einheitspatent / Erfindung / GebrMG / Geschäftsgeheimnis / Hinterlegungsordnung / Lizenzgebühr / Patentrecht / PatG / PatKostG / W-RSW_Rabatt
    ISBN:  9783406727894 
    EAN-Code: 
    9783406727894 
    Verlag:  Beck, C H 
    Einband:  Gebunden  
    Sprache:  Deutsch  
    Dimensionen:  H 240 mm / B 160 mm / D 70 mm 
    Gewicht:  2124 gr 
    Seiten:  2501 
    Zus. Info:  Leinen 
    Bewertung: Titel bewerten / Meinung schreiben
    Inhalt:
    Zum Werk Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt. Vorteile auf einen Blick
    • Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
    • Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
    • Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
    Zur Neuauflage Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht. Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG). Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs. Zielgruppe Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

      
     Empfehlungen... 
     Monetäre Patentbewertung nach DIN 77100: Mit Anwen - (Buch)
     Schutz des "Know-how" gegen ausspähende Produktana - (Buch)
     Geist, Recht und Geld: Die VG WORT 1958 - 2008 - (Buch)
     Patentrechtskommentar: PatG, GebrMG, IntPatÜG, PCT - (Buch)
     Patentgesetz: Gebrauchsmustergesetz, Patentkosteng - (Buch)
     Patentgesetz mit Europäischem Patentübereinkommen: - (Buch)
     Patentgesetz: Unter Berücksichtigung des Europäisc - (Buch)
     Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz: in der Fas - (Buch)
     Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz: In der Fas - (Buch)
     Gebrauchsmustergesetz - (Buch)
     Weitersuchen in   DVD/FILME   CDS   GAMES   BÜCHERN   



    Wird aktuell angeschaut...
     

    Zurück zur letzten Ansicht


    AGB | Datenschutzerklärung | Mein Konto | Impressum | Partnerprogramm
    Newsletter | 1Advd.ch RSS News-Feed Newsfeed | 1Advd.ch Facebook-Page Facebook | 1Advd.ch Twitter-Page Twitter
    Forbidden Planet AG © 1999-2024
    Alle Angaben ohne Gewähr
     
    SUCHEN

     
     Kategorien
    Im Sortiment stöbern
    Genres
    Hörbücher
    Aktionen
     Infos
    Mein Konto
    Warenkorb
    Meine Wunschliste
     Kundenservice
    Recherchedienst
    Fragen / AGB / Kontakt
    Partnerprogramm
    Impressum
    © by Forbidden Planet AG 1999-2024